Il est utilisé dans le traitement des cristaux d'arséniure de gallium (employés dans les téléphones mobiles, les lasers, etc.), comme agent de dopage dans les plaquettes de silicium et pour la fabrication de l'arsine gazeux (H3As), qui sert à produire les matériaux des superréseaux et les circuits intégrés hautes performances.
它被
于加工砷化镓晶体（在
话、激光器等中使），作为硅晶片的一种掺杂剂和制造可于制造超晶格物质和高性能集成路的砷气体（H3As）。
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